序号 | 设备名称 | 设备型号 | 用途 | 检测项目 | 检出限 |
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01 | VPD | PVA WSPS2 | 晶圆表面金属污染物的收集 | 收集wafer metal | 1E8 atoms/c㎡(搭配ICP-MS) |
02 | ICP-MS | Agilent 8900 | 检测chemical/UPW中金属杂质含量 (ppt/ppb级别) |
Metal | 10ppt |
03 | IC | Metrohm 940 | 检测Fab环境中阴阳离子种类和含量 (ppb级别) |
AMC(F⁻,Cl⁻,NO₃⁻, SO₄²⁻,NH₄⁺) |
1ppb |
04 | 浓度滴定仪 | Metrohm 905 | 酸/碱/双氧水的含量分析(常量级别) | 浓度 | 0.10% |
05 | 水分仪 | Metrohm 831 | 有机样品中微水含量分析(<1%) | 水分 | 10ppm |
VPD(Vapor Phase Decomposition,气相分解),是一种晶圆表面金属污染物收集的设备
原理:将晶圆置于HF Chamber中,通过HF蒸汽与晶圆表面SiO₂反应,将亲水性质的表面改变为疏水性,随后通过Scan Tube(HF/H₂O₂/H₂O)在晶圆表面扫掠,将金属污染物收集,再转移到ICPMS检测
VPD主要收集元素:
搭配ICPMS检出限:
ICPMS(Inductively Coupled Plasma-Mass Spectrometry,电感耦合等离子体质谱仪),是一种检测金属杂质含量的设备(除F,O等难电离元素外,元素周期表几乎所有元素都可检测)
原理:通过雾化器的虹吸作用将液体样品引入至雾化室雾化,并在等离子体火焰处电离成一价正离子,四极杆通过元素不同质荷比筛选目标离子后到达EM检测器检测。
化学品:
检测元素:
检出限:
IC(Ion Chromatography,离子色谱),是利用固定相对不同离子的保留能力不同,将不同阴离子或阳离子分离出来的方法。
原理:利用自动进样器将样品引入色谱柱,在淋洗液的冲洗下色谱柱将样品中的不同离子分离开,然后进入检测器收集电导率信号,与标准曲线做比对,计算出不同离子的浓度。
离子交换色谱主要用于无机和有机阴阳离子的分析,在Fab中主要应用于UPW/环境AMC的监控
IC主要检测离子:
检出限:
电位滴定仪,是基于酸碱中和、氧化还原、络合反应的原理进行滴定,通过测量电位变化以确定滴定终点的仪器
半导体行业主要用于Incoming,FAC和WET Process Chemical的常量浓度检测
化学品:
测试范围:
卡尔·费休(Karl Fischer,简写KF)滴定法是世界公认的测定各类物质中水含量的经典方法,其广泛应用于化学品、油品、药品和食品等领域
反应原理:
反应过程中,消耗碘和水的摩尔比为1:1,通过测定反应中消耗碘的量,可计算出样品中的水含量。
在半导体行业中主要用于有机化学品的微水含量检测
化学品:
测试范围: